特許
J-GLOBAL ID：200903026401152550
シロキサン含有ポリアミドイミド及びその製造方法並びにそれを含むワニス
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-217161
公開番号（公開出願番号）：特開2000-044686
出願日： 1998年07月31日
公開日（公表日）： 2000年02月15日
要約：
【要約】【課題】 ろ過行程が不要で、高分子量のシロキサン含有ポリアミドイミドを副反応の起こりにくい低温で製造する方法及びそれにより得られるワニスを提供する。【解決手段】 (A)シロキサンジアミンまたは(A)と(B)芳香族環を3個以上有するジアミンの混合物と無水トリメリット酸とを非プロトン性極性溶媒の存在下に50〜90°Cで反応させ、さらに水と共沸可能な芳香族炭化水素を非プロトン性極性溶媒に投入し、120〜180°Cで反応を行いシロキサンジイミドジカルボン酸またはシロキサンジイミドジカルボン酸と芳香族ジイミドジカルボン酸を含む混合物を製造し、(C)塩基性触媒の存在下で芳香族ジイソシアネートと反応させてシロキサン含有ポリアミドイミドを製造する。
請求項（抜粋）：
シロキサンジアミンまたはシロキサンジアミンと芳香族環を3個以上有するジアミンの混合物とを無水トリメリット酸と反応させて得られる一般式(1式)または一般式(2式)で示されるジイミドジカルボン酸を含む混合物と一般式(3式)で示される芳香族ジイソシアネートを塩基性触媒の存在下で反応させて得られるシロキサン含有ポリアミドイミド。【化1】【化2】【化3】
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (69件)：
4J035BA02
, 4J035CA01K
, 4J035GA06
, 4J035GB02
, 4J035GB03
, 4J035LA03
, 4J035LB01
, 4J035LB02
, 4J035LB03
, 4J035LB20
, 4J043PA02
, 4J043PA04
, 4J043PC015
, 4J043QB58
, 4J043RA06
, 4J043SA11
, 4J043SA42
, 4J043SA43
, 4J043SB01
, 4J043SB03
, 4J043TA12
, 4J043TA66
, 4J043TA71
, 4J043TB01
, 4J043UA041
, 4J043UA081
, 4J043UA121
, 4J043UA131
, 4J043UA132
, 4J043UA142
, 4J043UA152
, 4J043UA162
, 4J043UA172
, 4J043UA261
, 4J043UA432
, 4J043UA761
, 4J043UB011
, 4J043UB012
, 4J043UB022
, 4J043UB062
, 4J043UB132
, 4J043UB142
, 4J043UB152
, 4J043UB302
, 4J043UB352
, 4J043UB401
, 4J043UB402
, 4J043VA011
, 4J043VA021
, 4J043VA032
, 4J043VA041
, 4J043VA051
, 4J043VA052
, 4J043VA072
, 4J043VA081
, 4J043VA091
, 4J043XA03
, 4J043XA14
, 4J043XA16
, 4J043XA19
, 4J043XB02
, 4J043XB19
, 4J043XB20
, 4J043YA03
, 4J043ZB01
, 4J043ZB03
, 4J043ZB11
, 4J043ZB47
, 4J043ZB50
