特許

J-GLOBAL ID：200903026404255813

放射性廃液の処理方法

発明者： 野下 健司 ,  西 高志 ,  雪田 篤 ,  松田 将省
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-280058
公開番号（公開出願番号）：特開平11-118990
出願日： 1997年10月14日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：

【要約】【課題】ホウ素を含む放射性廃液に対し、少ない工程数でかつ簡素な処理システムで高減容かつ健全なセメント固化を行うことができる放射性廃液の処理方法を提供する。【解決手段】アルカリ添加工程101でホウ酸廃液にアルカリを加えてpHを13以上に調整し、このpHが調整された廃液を蒸発濃縮工程102で蒸発濃縮し、この濃縮された液を固化工程103でセメント系固化材と混和して固化処理する。

請求項（抜粋）：

ホウ素を含む放射性廃液にアルカリを加えてpHを所定範囲に調整するアルカリ添加工程と、このpHが調整された廃液を蒸発濃縮する蒸発濃縮工程と、この濃縮された液をセメント系固化材と混和して固化処理する固化工程とを有する放射性廃液の処理方法において、前記アルカリ添加工程で、pHが12より大きくなるように調整することを特徴とする放射性廃液の処理方法。

IPC (2件)：

G21F 9/16 521 ,  G21F 9/16 ZAB

FI (2件)：

G21F 9/16 521 D ,  G21F 9/16 ZAB