特許
J-GLOBAL ID：200903026407831580
ウエハステージ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-128136
公開番号（公開出願番号）：特開平10-321710
出願日： 1997年05月19日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：
【要約】【課題】 ステージ本体の上面あるいはウエハの裏面に存在するダストの影響による露光の際のピントずれを抑え、これにより半導体装置の信頼性および製造歩留りの向上を図る。【解決手段】 ウエハステージ1は、ウエハを載せてこのウエハを吸着保持するステージ本体2を備え、ステージ本体2の上面側にウエハを吸引するための溝5が形成されたもので、上記溝5が、その開口部5aの面積が、ステージ本体2の上面にウエハが接触する接触部2aの面積よりも大きくなるように形成された構成となっている。
請求項（抜粋）：
ウエハを載せた状態でこのウエハを吸着保持するステージ本体を備え、該ステージ本体の上面側にウエハを吸引するための溝が形成されているウエハステージにおいて、前記溝は、その開口部の面積が、前記ステージ本体の上面にウエハが接触する接触部の面積よりも大きくなるように形成されていることを特徴とするウエハステージ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/68 P
, H01L 21/30 515 G
