特許
J-GLOBAL ID：200903026415062138
ガスデポジション装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
飯阪 泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-129497
公開番号（公開出願番号）：特開平5-295550
出願日： 1992年04月22日
公開日（公表日）： 1993年11月09日
要約：
【要約】[目的] ガスデポジション装置を停止して、超微粒子生成室を開けることなく、ガス入口の蒸気に対する相対的位置を最適の位置に迅速、かつ正確に調整すること。[構成] ガスデポジション装置の超微粒子生成室14の一側壁部14aの搬送管7が貫通する開口の外周壁部に、この搬送管7を内蔵し、移動可能とするガス入口調整機構1を設ける。
請求項（抜粋）：
超微粒子生成室内に蒸発すべき物質を貯蔵する蒸発源と、前記超微粒子生成室内に導入するキャリアガスによって前記蒸発源から蒸発した物質を膜形成室内へ搬送するためのガス入口を前記超微粒子生成室内に位置させた搬送管とを備えたガスデポジション装置において、前記蒸発源と前記搬送管のガス入口との相対的位置を調整する調整機構を設けたことを特徴とするガスデポジション装置。
IPC (3件)：
C23C 16/44
, C23C 14/22
, F27B 14/10
