特許
J-GLOBAL ID：200903026425936632
位置計測装置及びパターン測定装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
飯塚 雄二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-186831
公開番号（公開出願番号）：特開平10-019513
出願日： 1996年06月27日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：
【要約】【課題】 熱による計測誤差を軽減した位置計測装置及びパターン測定装置を提供すること。【解決手段】 光学系(14)の光軸(A)を含む第1の平面(Pa)内に反射面(24a)を有する参照用反射部材(24)を用いる。参照用反射部材(24)は、光学系(14,14a))の外周上の第1の平面(Pa)と交差する位置に支持された保持部材(44)によって保持する。計測対象物(20,10)に固定された計測用反射部材(28)と、参照用反射部材(24)及び計測用反射部材(28)に対して計測用の光を投射し、当該参照用反射部材(24)と計測用反射部材(28)の反射面で反射した光を用いて、光学系(14)の光軸と計測対象物(20,10)との相対的な位置変位量を計測する。
請求項（抜粋）：
所定の光学系の光軸に対する計測対象物の相対的な位置変位量を計測する位置計測装置において、前記光学系の光軸を含む第1の平面内に反射面を有する参照用反射部材と;前記光学系の外周上の前記第1の平面と交差する位置に支持され、前記参照用反射部材を前記光学系に対して保持する保持部材と;前記計測対象物に固定された計測用反射部材と;前記参照用反射部材及び計測用反射部材に対して計測用の光を投射し、当該参照用反射部材と計測用反射部材の反射面で反射した光を用いて、前記光学系の光軸と前記計測対象物との相対的な位置変位量を計測する計測手段とを備えたことを特徴とする位置計測装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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