特許

J-GLOBAL ID：200903026455224394

薄膜蒸着装置及びこれを利用した薄膜蒸着方法

発明者： 禹 誠 一 ,  朴 勝 彬 ,  文 元 碩 ,  鄭 鉉 振
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 八田 幹雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-243666
公開番号（公開出願番号）：特開平9-213643
出願日： 1996年09月13日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：

【要約】【課題】 薄膜を形成させる薄膜蒸着装置を提供する。【解決手段】 本発明は基板8上に化学化合物の薄膜を蒸着する装置において、前駆体溶液が盛られる貯蔵槽1と、前記前駆体溶液を移送させる移送手段3と、前記移送された前駆体溶液の温度を調節し、前記移送された前駆体溶液を液滴に変換させる液滴噴霧装置5と、前記液滴噴霧装置5に連結されたノズルを通して前記液滴が注入されるチャンバ9と、前記チャンバ9内に前記基板8が置かれるステージ11と、前記チャンバの圧力を調節するための圧力調節手段18よりなり、前記基板8上に前記注入された液滴を蒸着させて薄膜を形成することを特徴とする。本発明によれば、金属薄膜の組成制御が易く、常温条件で薄膜を形成しうる。

請求項（抜粋）：

基板上に化学化合物の薄膜を蒸着する装置において、前駆体溶液が盛られる貯蔵槽と、前記前駆体溶液を移送させる移送手段と、前記移送された前駆体溶液の温度を調節し、前記移送された前駆体溶液を液滴に変換させる液滴噴霧装置と、前記液滴噴霧装置に連結されたノズルを通して前記液滴が注入されるチャンバと、前記チャンバ内に前記基板が置かれるステージと、前記チャンバの圧力を調節するための圧力調節手段よりなり、前記基板上に前記注入された液滴を蒸着させて薄膜を形成することを特徴とする薄膜蒸着装置。

IPC (6件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/285 ,  H01L 39/24 ZAA ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242

FI (5件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/285 P ,  H01L 39/24 ZAA B ,  H01L 27/10 651