特許
J-GLOBAL ID：200903026464549824
電子ビーム描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-329553
公開番号（公開出願番号）：特開平6-177021
出願日： 1992年12月09日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：
【要約】【目的】本発明は、被描画体の高さを予め測定することなく、描画中にその描画位置の傾きを求めてパターン歪みを予測し補正することで、被描画体の自重撓みによるパターン歪みを補正して高精度な描画を行う。【構成】基板(5) における電子ビームの描画位置での高さを測定し、現在の描画位置での高さデータZdとその描画位置付近の高さデータZa、Zb、Zcとから、描画位置における基板5の傾きΘを逐次求め、この傾きΘ及び基板5の厚さTに基づいてパータン歪み補正量を求める。
請求項（抜粋）：
電子ビームを被描画体に対して走査して微細パターンを描画する電子ビーム描画装置において、前記被描画体における前記電子ビームの走査位置での前記被描画体表面の高さを測定する高さ測定手段と、この高さ測定手段より測定された高さデータを逐次記憶する高さメモリと、前記高さ測定手段により測定された走査位置での高さデータと前記高さメモリに記憶されている前記走査位置付近の前記高さデータとから前記走査位置における前記被描画体表面の傾きを逐次求め、この傾き及び前記被描画体の厚さに基づいて前記走査位置の描画パターン補正を行うパターン歪み補正手段とを具備したことを特徴とする電子ビーム描画装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 341 D
, H01L 21/30 341 F
