特許

J-GLOBAL ID：200903026469102500

露光装置

発明者： 山崎 通
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-029112
公開番号（公開出願番号）：特開2003-234265
出願日： 2002年02月06日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：

【要約】【課題】 ウエハチャック上の異物を検知し、ウエハチャック上に異物が無いのにクリーニングを行ったり、異物が残っているのに露光が開始されるという状況の発生を防ぎ、常に最良の環境で露光が可能な露光装置および露光方法等を提供する。【解決手段】 レチクル基板のパターンを投影光学系を介して半導体ウエハに露光する露光装置において、当該露光装置が半導体ウエハを保持するウエハチャック5とウエハチャック5を支持するウエハステージ6とを備え、ウエハチャック5に半導体ウエハを装着する前にウエハチャック5上の異物9の有無を異物検出手段として用いるオフアクシススコープや比較機構11等により検出する。

請求項（抜粋）：

原版のパターンを基板に露光する露光装置において、前記基板を保持する基板チャックと、該基板チャックを支持する基板ステージとを備え、前記基板チャックに前記基板を装着する前に該基板チャック上の異物の有無を検出する異物検出手段を有することを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/30 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

G01B 11/30 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 P ,  H01L 21/30 503 G ,  H01L 21/30 502 G

Fターム (27件)：

2F065AA49 ,  2F065CC17 ,  2F065FF00 ,  2F065FF04 ,  2F065HH16 ,  2F065HH17 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ31 ,  2F065RR07 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA02 ,  5F031HA08 ,  5F031HA13 ,  5F031JA01 ,  5F031JA21 ,  5F031JA43 ,  5F031MA27 ,  5F031PA23 ,  5F046AA18 ,  5F046CC08 ,  5F046CC10 ,  5F046DB11 ,  5F046DB14 ,  5F046DD06 ,  5F046FA17