特許

J-GLOBAL ID：200903026469812264

有機ELパネルの製造方法

発明者： 久保田 広文
出願人/特許権者： パイオニア株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-100597
公開番号（公開出願番号）：特開2006-286211
出願日： 2005年03月31日
公開日（公表日）： 2006年10月19日
要約：

【課題】 有機ELパネルを高温保存した場合であっても、有機EL素子の輝度の部分的な低下がなく、非発光部分が拡大することがない、信頼性の高い有機ELパネルの製造方法を提供する。【解決手段】 基板、有機固体層、電極からなる有機EL素子と、有機EL素子を覆って形成され、有機膜と無機膜を積層してなる封止膜と、を有する有機ELパネルの製造方法であって、有機EL素子上に有機膜を形成する際に、基板温度を50°C以上に加熱しながら、有機膜を形成する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基板、有機固体層、電極からなる有機EL素子と、 前記有機EL素子を覆って形成され、有機膜と無機膜を積層してなる封止膜と、を有する有機ELパネルの製造方法であって、 有機EL素子上に有機膜を形成する際に、基板温度を50°C以上に加熱しながら、有機膜を形成することを特徴とする有機ELパネルの製造方法。

IPC (3件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/04 ,  H01L 51/50

FI (3件)：

H05B33/10 ,  H05B33/04 ,  H05B33/14 A

Fターム (7件)：

3K007AB11 ,  3K007AB12 ,  3K007AB13 ,  3K007BB01 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  3K007FA02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 有機電界発光素子及びその製造装置及び電子デバイス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-082037   出願人：株式会社豊田中央研究所