特許
J-GLOBAL ID：200903026473483445
位置合わせ方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-008905
公開番号（公開出願番号）：特開平6-224103
出願日： 1993年01月22日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：
【要約】【目的】 エンハーンスト・グローバル・アライメント方式(EGA方式)等において、実際に位置合わせ用のマークを計測して得られる計測信号の信号処理条件を最適化する。【構成】 選択ショット領域SA1〜SA9に属するウエハマークMxi,Myiの計測信号波形を取り込み、スライスレベル等の信号処理条件を種々に変えて各ウエハマークMxi,Myiのステージ座標系(X,Y)での位置を求める。各信号処理条件に応じて、最小自乗法によりウエハマークの設計上の座標位置から計算上の座標位置を求めるための座標変換パラメータ及び残留誤差成分を求め、残留誤差成分が最小になるときの座標変換パラメータを採用する。
請求項（抜粋）：
基板上に設定された試料座標系上の配列座標に基づいて前記基板上に配列された複数の被加工領域の各々を、前記基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の加工位置に対して位置合わせするに当たって、前記複数の被加工領域の内、予め選択された少なくとも3つの被加工領域の前記静止座標系上における座標位置を計測し、該計測された複数の座標位置を統計計算することによって、前記基板上の複数の被加工領域の各々の前記静止座標系上における配列座標を算出し、該算出された複数の被加工領域の各々の配列座標に従って前記基板の移動位置を制御することによって、前記複数の被加工領域の各々を前記加工位置に対して位置合わせする方法において、前記予め選択された少なくとも3つの被加工領域の前記静止座標系上における座標位置を計測する際に、前記被加工領域の測定対象物から得られる計測信号の信号処理条件を種々に変えて座標位置を求め、前記信号処理条件毎に前記複数の被加工領域の前記試料座標系上の配列座標から前記静止座標系上の配列座標を算出するための1組の変換パラメータを求め、該1組の変換パラメータ毎に、前記算出された前記静止座標系上の配列座標と前記信号処理条件のもとで計測された座標位置との残留誤差成分を求め、該残留誤差成分が最小になるときの前記1組の変換パラメータを用いて、前記基板上の複数の被加工領域の各々の前記静止座標系上における配列座標を算出するようにしたことを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (2件)：
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