特許

J-GLOBAL ID：200903026479545183

電解水製造装置

発明者： 青木 秀充 ,  山中 弘次 ,  今岡 孝之 ,  二ツ木 高志 ,  山下 幸福
出願人/特許権者： 日本電気株式会社 ,  オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 本多 小平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-265812
公開番号（公開出願番号）：特開平8-127887
出願日： 1994年10月28日
公開日（公表日）： 1996年05月21日
要約：

【要約】【目的】 不純物が殆どない純水電解水を用いて、半導体等の洗浄に適した酸性で酸化性の水溶液、あるいはアルカリ性で還元性の水溶液を製造し、かつその酸化還元電位あるいはpHを容易に調整可能とする装置を提供する。【構成】 アノード室6と、カソード室8と、これらアノード室6とカソード室8の間に一対の隔膜により区分して設けた中間室7との三室で三槽式の電気分解装置1を構成すると共に、これら三室に夫々原水を供給する供給配管9,10,11、及び処理液を排出する排出配管14,15,16を接続し、更に前記アノード室からの排出管14に酸添加手段12を設けると共に、カソード室8からの排出配管16にアルカリ添加手段13を設け、かつ添加する電解質の組成,濃度,添加量,pHのうちの少なくともいずれかを制御可能とした。

請求項（抜粋）：

アノード電極を配したアノード室、カソード電極を配したカソード室、これらアノード室とカソード室の間に一対の隔膜により区分された中間室の三室で構成された水の電気分解装置と、この電気分解装置の各三室に各々原水を供給する供給配管と、これら三室から各々処理液を排出する排出配管と、上記アノード室及び/又はカソード室からの排出配管に設けられた電解質添加手段とを備え、該電解質添加手段は、添加する電解質の組成、濃度、添加量、pHのうちの少なくともいずれかが制御可能に設けられていることを特徴とする電解水製造装置。

IPC (2件)：

C25B 9/00 302 ,  C25B 1/04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 電解水製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-265809   出願人：オルガノ株式会社