特許

J-GLOBAL ID：200903026479931083

基板ホルダーおよびそれを用いた微細加工装置

発明者： 森内 昇 ,  天田 春男
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-307043
公開番号（公開出願番号）：特開平9-148225
出願日： 1995年11月27日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】 微細加工が容易にできる基板ホルダーおよびそれを用いた露光装置などの微細加工装置を提供する。【解決手段】 同一平面に配置されている複数のウエハ移動体12と、その外周部に突出した形状のウエハ載置部12aと、ウエハ載置部12aの中央部にウエハ2を固定するウエハ固定機構としての真空吸着用の穴12bとを備えたウエハホルダー3である。ウエハ移動体12は、駆動体13を用いてその外周方向に移動してウエハ2を伸張させるなどの処理を行うことができる。

請求項（抜粋）：

同一平面に配置されている複数の基板移動体と、前記基板移動体の外周部に突出した形状の基板載置部と、前記基板載置部の中央部に基板を固定する基板固定機構とを備えており、前記基板移動体はその外周方向に移動できるようになっていることを特徴とする基板ホルダー。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/30 503 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 P