特許
J-GLOBAL ID:200903026480286701
フォトマスク洗浄装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
土井 育郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-210539
公開番号(公開出願番号):特開2003-029394
出願日: 2001年07月11日
公開日(公表日): 2003年01月29日
要約:
【要約】【課題】 洗浄効果が高く、省スペースで省エネルギーで、大型マスクに対応できるフォトマスク洗浄装置を提供する。【解決手段】 装置本体内で搬送中のフォトマスクに対して処理液を供給することによって当該フォトマスクの洗浄を行う装置であって、フォトマスクMを垂直に立てた状態から僅かに寝かせた姿勢で搬送する搬送手段を具備させる。その搬送手段は、複数のローラー11,12を備えたローラーコンベアで構成する。水平搬送に比べると、たわみを生じることなく、少ないスペースで大型のフォトマスクに対応できる。
請求項(抜粋):
装置本体内で搬送中のフォトマスクに対して処理液を供給することによって当該フォトマスクの洗浄を行う装置であって、フォトマスクを垂直に立てた状態から僅かに寝かせた姿勢で搬送する搬送手段を備えてなることを特徴とするフォトマスク洗浄装置。
IPC (7件):
G03F 1/08
, B05C 11/10
, B08B 1/02
, B08B 1/04
, B08B 3/02
, B08B 7/04
, H01L 21/68
FI (7件):
G03F 1/08 X
, B05C 11/10
, B08B 1/02
, B08B 1/04
, B08B 3/02 C
, B08B 7/04 A
, H01L 21/68 A
Fターム (41件):
2H095BB19
, 2H095BB20
, 2H095BB23
, 2H095BB29
, 2H095BB30
, 2H095BB31
, 3B116AA02
, 3B116AB16
, 3B116AB27
, 3B116BA02
, 3B116BA15
, 3B116BB22
, 3B116CA01
, 3B116CC01
, 3B116CC03
, 3B201AA02
, 3B201AB07
, 3B201AB16
, 3B201AB27
, 3B201AB37
, 3B201BA02
, 3B201BA15
, 3B201BB22
, 3B201BB93
, 3B201BB94
, 3B201CA01
, 3B201CC01
, 3B201CC12
, 4F042AA06
, 4F042CC04
, 4F042DA01
, 4F042DA08
, 4F042DE01
, 4F042DF19
, 4F042DF25
, 4F042DF26
, 4F042ED05
, 5F031CA07
, 5F031FA18
, 5F031GA53
, 5F031MA23
引用特許:
審査官引用 (8件)
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マスク準備装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-018276
出願人:大日本印刷株式会社
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板状部材の搬送装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-258134
出願人:第一施設工業株式会社, 永田徹三
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特開平4-241534
-
基板洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-065716
出願人:株式会社ニコン
-
レチクル洗浄方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-222068
出願人:三洋電機株式会社
-
フォトマスクの洗浄装置及びフォトマスクの洗浄方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-222344
出願人:日本電気株式会社
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特開平4-241534
-
基板搬送装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-167486
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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