特許
J-GLOBAL ID：200903026495641141
磁気記録ディスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
合田 潔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-150247
公開番号（公開出願番号）：特開平6-076279
出願日： 1993年06月22日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：
【要約】【目的】 接触記録式ディスク・ファイルで使用される、非常に平滑な上面と高い飽和保磁力を有し、極めて平滑なヘッド・ディスク界面と飽和保磁力の高い、磁気記録ディスク及びその製造方法を提供すること。【構成】 ディスク基板上の超仕上げしたきめのないNiP被覆を酸化して、NiO被膜を形成する。このNiO被膜によって、後でスパッタ付着される磁気層が非常に高い飽和保磁力を有することができ、そのためディスクを接触記録の応用例で使用することができるようになる。NiO被膜と、ディスクを構成する、上部保護層を含めて後で付着される層は、研磨されたNiPの平滑な表面と共形になり、したがって接触記録式ディスク・ファイルにおけるヘッド・ディスク界面に必要なディスク上層の非常に平滑な表面を保存する。基板上にNiO被膜を形成するための好ましい工程では、基板を空気中でNiP被膜を結晶化させる温度より低い温度でアニールする。
請求項（抜粋）：
ニッケル・リン表面被覆を有するアルミニウム合金を含む基板と、ニッケル・リン被覆上に形成された酸化ニッケルの被膜と、酸化ニッケル被膜上に形成された下層と、下層を覆って形成されたコバルトを主体とする合金を含む磁気層とを備える、薄膜金属合金磁気記録ディスク。
IPC (4件)：
G11B 5/82
, C23C 14/06
, G11B 5/84
, C23F 4/00
