特許

J-GLOBAL ID：200903026496792720

撮像装置

発明者： 西岡 由起憲
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-302228
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107003
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：

【要約】【課題】 暗箱に設置された被写体に光を照射し、被写体を撮像する装置において、被写体の設置位置の変動に起因する光量および/または照度分布の変動を補正する。【解決手段】 位置センサー20により試料100の設置位置を検出し、位置制御部70により、試料100の設置位置に基づいて、落射光源としてのバンドル光ファイバー50の出射部と試料100の設置位置との距離が既定の距離になるように、光ファイバー50が挿入される暗箱10の角部に設けられたリニアレールに沿って、光ファイバー50を移動する。

請求項（抜粋）：

被写体を異なる高さの位置に設置可能な被写体設置手段を有する暗箱と、前記被写体設置手段に設置された被写体に光を照射する光源ユニットと、前記被写体を撮像する撮像手段とを備えてなる撮像装置であって、前記光源ユニットが、光源と、前記被写体が設置された位置の違いにより前記被写体に照射される光量および/または照度分布の変動を補正する光調整手段とからなるものであることを特徴とする撮像装置。

IPC (4件)：

G01N 21/64 ,  G02B 7/28 ,  H04N 5/225 ,  H04N 7/18

FI (4件)：

G01N 21/64 F ,  H04N 5/225 Z ,  H04N 7/18 C ,  G02B 7/11 H

Fターム (21件)：

2G043AA03 ,  2G043BA16 ,  2G043DA02 ,  2G043EA01 ,  2G043HA01 ,  2G043HA02 ,  2G043HA05 ,  2G043LA03 ,  2G043MA01 ,  2G043NA05 ,  2H051AA00 ,  2H051BB35 ,  5C022AA13 ,  5C022AB15 ,  5C022AC42 ,  5C022AC78 ,  5C054AA01 ,  5C054CA01 ,  5C054CD03 ,  5C054CE04 ,  5C054HA05