縦型CVD装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-305358
公開番号（公開出願番号）：特開平9-148254
出願日： 1995年11月24日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】回転機構がないと膜厚にばらつきを生じ、回転機構を設けるとコスト高になる。【解決手段】インナーチューブ2の内側に多孔チューブ3を設け、インナーチューブ2と多孔チューブ3とで構成される流入経路より反応ガスをウェーハ5上に導入する。

請求項（抜粋）：

上部に内側に向いた幅の広い第1のフランジを有する円筒状の第1のマニホールドと、この第1のマニホールド上に設けられガス導入管と排気管とを備えかつガス導入管より上部に内側に向いた幅の狭い第2のフランジを有する円筒状の第2のマニホールドと、前記第1のフランジにシール固定され複数の孔を有する円筒状の多孔チューブと、この多孔チューブの周囲を覆うように前記第2のフランジにシール固定され前記多孔チューブと共に前記ガス導入管より導入される反応ガスの流入経路を構成しかつ上端部で前記多孔チューブに接する円筒状のインナーチューブと、このインナーチューブの周囲を覆うように前記第2のマニホールド上にシール固定され前記インナーチューブと共に導入された反応ガスを前記排気管より排出する為の流出経路を構成する密閉式のアウターチューブと、ウェーハを水平に搭載し前記多孔チューブの反応室内に搬入する為のボートとを含むことを特徴とする縦型CVD装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 , H01L 21/31 , C23C 16/44

FI (3件)：

H01L 21/205 , H01L 21/31 B , C23C 16/44 D

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