特許
J-GLOBAL ID：200903026507546611
不活性ガス基板温度調節装置及びその方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 元彦 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-500612
公開番号（公開出願番号）：特表平11-506821
出願日： 1996年05月20日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：
【要約】チャンバ(12)とチャンバ(12)内に配置されたプレート(32)とガス供給源(14)とを備えた基板温度調節装置(10)。基板(S)が伝熱面のスタンドオフ(41)の上に置かれ、ガスがチャンバ(12)に送り込まれる。プレート(32)は、加熱され、或いは冷却されて、基板(S)の温度を変える。熱は、主にガス伝導加熱によって基板(S)とプレート(32)との間を移動する。プレート(32)の溝(42)のために、ガスは、基板(S)と伝熱面との間で非常に高速且つ均一に供給され、さらに排気される。
請求項（抜粋）：
実質的に平面状の基板の温度を変化せしめる装置であって、 チャンバと、 チャンバ内に位置し、表面に沿って溝が形成されるとともに基板との間の小間隙によって基板を支持する手段を有する上面を有するプレートと、 チャンバ内にガスを導入する手段と、 プレートを加熱する手段とを有し、熱は、ガス伝導によってプレートの上面と基板との間に移動されることを特徴とする装置。
IPC (4件)：
F27B 5/04
, F27D 7/06
, H01L 21/205
, H01L 21/324
F27B 5/04
, F27D 7/06 B
, H01L 21/205
, H01L 21/324 J
