特許
J-GLOBAL ID：200903026537405931
ガラス基板面取り装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-163176
公開番号（公開出願番号）：特開平10-006195
出願日： 1996年06月24日
公開日（公表日）： 1998年01月13日
要約：
【要約】【課題】ガラス基板の面取り加工における薄膜領域へのカレットの付着を防止する。【解決手段】上面にガラス基板1を吸着するための吸着孔3aを有してガラス基板1の端縁を突出させて載置固定するステージ3と、ガラス基板1の端縁に沿って移動しつつ当該端縁の面取り加工を行う回転砥石8と、ガラス基板1の外周面に開放端縁を密着して当該ガラス基板に形成した薄膜領域5を内包して密閉する防塵カバー9と、ステージ3に対して防塵カバー9を着脱するカバー移載装置11と、吸着孔3aに連通する減圧管7と、防塵カバー9の内部と減圧管7を連結する連結チューブ10とを備え、ガラス基板1の薄膜領域5を回転砥石8による面取り加工で生じる加工塵埃から遮断するごとく構成した。
請求項（抜粋）：
上面にガラス基板を吸着するための吸着孔を有し、前記ガラス基板の端縁を突出させて載置固定するステージと、前記ガラス基板の端縁に沿って移動しつつ当該端縁の面取り加工を行う回転砥石と、前記ガラス基板の外周面に開放端縁を密着して当該ガラス基板に形成した薄膜領域を内包して密閉する防塵カバーと、前記ステージに対して前記防塵カバーを着脱するカバー移載装置と、前記吸着孔に連通する減圧管と、前記防塵カバーの内部と前記減圧管を連結する連結チューブとを備え、前記ガラス基板の薄膜領域を前記回転砥石による面取り加工で生じる加工塵埃から遮断するごとく構成したことを特徴とするガラス基板面取り装置。
IPC (2件)：
B24B 9/10
, G02F 1/1333 500
B24B 9/10
, G02F 1/1333 500
