特許
J-GLOBAL ID：200903026539537215
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下出 隆史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-140860
公開番号（公開出願番号）：特開平7-326570
出願日： 1994年05月30日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：
【要約】【目的】 フィルタ54の乾燥に伴うフィルタ性能の低下を生じない基板処理装置20を提供する。【構成】 処理槽22に貯留した薬液は、循環管路36を介して循環させつつ、フィルタ装置50によりパーティクル等が除去される。フィルタ装置50は、フィルタ内室54aを有する袋状のフィルタ54を備えており、該フィルタ54の外部からフィルタ内室54aへ循環管路36の薬液を通過させることによりパーティクル等が除去されて清浄処理がなされる。薬液は、フィルタ54を通過する際に減圧状態になるから、薬液に溶けていた気体が発生する。この気体は、フィルタ内室54a内に溜まろうとするが、気体抜き管71を介してフィルタ内室54aから排出され、フィルタ54を乾燥させない。
請求項（抜粋）：
基板を処理する処理槽を備え、該処理槽に貯留した処理液を処理槽外に設けた循環管路を経て循環させつつ処理液を清浄処理する基板処理装置において、第1室と第2室との間に介在し、上記循環管路を流れる処理液を第1室から第2室へ通すことにより清浄処理するフィルタと、上記第2室内の気体を第2室外へ排出する気体排出手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/30 501
