特許

J-GLOBAL ID：200903026542424367

フォトマスク、ペリクル装脱着装置及び基板処理装置

発明者： 安井 孝史
出願人/特許権者： 株式会社半導体先端テクノロジーズ
代理人 (3件)： 高田 守 ,  高橋 英樹 ,  大塚 環
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-030087
公開番号（公開出願番号）：特開2004-240221
出願日： 2003年02月06日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：

【課題】フォトマスク基板へのペリクルの装脱着を容易に行えるようにする。【解決手段】一面に所定のパターンの形成されたフォトマスク基板と、フォトマスク基板のこの一面に対して垂直に、パターンの外周を囲むように配置されたフレームと、フレームに張設され、フォトマスク基板の一面に対向し、所定の間隔を置いて配置されたペリクル膜と、を備えるフォトマスクにおいて、フレームは、フォトマスク基板の一面と接する部分において開放する中空のフレームであり、フレームの少なくとも一箇所に孔部を備える。フレームを、フォトマスク基板に装着するときには、支持台に配置されたフォトマスク基板に、フレームを配置して、後部から、フレーム内部の空間のガスを排気する。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

一面に所定のパターンの形成されたフォトマスク基板と、 前記フォトマスク基板の前記一面に対して垂直に、前記パターンの外周を囲むように配置されたフレームと、 前記フレームに張設され、フォトマスク基板の前記一面に対向し、所定の間隔を置いて配置されたペリクル膜と、 を備え、 前記フレームは、前記フォトマスク基板の前記一面と接する部分において開放する中空のフレームであり、 前記フレームの少なくとも一箇所に孔部を備えることを特徴とするフォトマスク。

IPC (3件)：

G03F1/14 ,  G03F1/08 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F1/14 K ,  G03F1/08 S ,  H01L21/30 502P

Fターム (5件)：

2H095BA01 ,  2H095BA07 ,  2H095BC38 ,  2H095BC39 ,  2H095BD05