傾斜ターゲット型マグネトロンスパッタ装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：佐藤泰一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-231375
公開番号（公開出願番号）：特開平10-060641
出願日： 1996年08月12日
公開日（公表日）： 1998年03月03日
要約：

【要約】【課題】本発明はこれまでのスパッタ法に比べて、高エネルギースパッタ粒子及び反跳ガスを使用したスパッタを実現し、かつ高速な成膜とを特徴とする膜形成装置を提供する。【解決手段】 2枚1組としたターゲットを対称に配置し、それらを基板に対して傾斜させる機能を具備することによって、ターゲットからの高エネルギースパッタ粒子と反跳ガスを利用した高速の成膜を特徴とする膜形成装置を提供する。

請求項（抜粋）：

2枚一組としたターゲットを対称に配置し、それらを基板に対して傾斜させる機能を具備することによって、ターゲットからの高エネルギースパッタ粒子と反跳ガスを利用した高速な成膜を特徴とする膜形成装置

IPC (2件)：

C23C 14/35 , H01L 21/203

FI (2件)：

C23C 14/35 Z , H01L 21/203 S

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭60-013066
特開平1-108369
特開平2-018734

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審査官引用 (5件)

特開昭60-013066
特開平1-108369
特開平2-018734

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