特許

J-GLOBAL ID：200903026544588154

導電膜の形成用組成物と形成方法

発明者： 西原 明 ,  山下 行也 ,  林 年治 ,  萩原 正弘 ,  関口 昌宏
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 広瀬 章一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-057288
公開番号（公開出願番号）：特開平8-255521
出願日： 1995年03月16日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：

【要約】【目的】 耐熱性の低い樹脂基板にも適用でき、低抵抗かつ優れた光学特性 (高い光透過率、低ヘーズ) の透明導電膜を形成できる導電膜形成用組成物、および導電膜の形成方法を提供する。【構成】 錫を含有する酸化インジウム (ITO) 粉末が樹脂液中に分散している導電膜形成用組成物において、ITO粉末を、粉末に対して 0.1〜5重量%の量の2フッ素含有不活性有機液体で予め表面処理しておく。この組成物を基板上に印刷または塗布し、次いで乾燥、熱硬化、および/または紫外線照射により硬化させると透明導電膜が形成される。その際に、乾燥後であって熱硬化もしくは紫外線照射の前、熱硬化中もしくは紫外線照射中、または基板上に導電膜を形成した後、基板上の膜を熱加圧処理 (圧延またはホットプレス) すると、電気特性と光学特性が一層向上する。

請求項（抜粋）：

錫を含有する酸化インジウム粉末が樹脂液中に分散している導電膜形成用組成物であって、前記酸化インジウム粉末が、粉末に対して 0.1〜5重量%の量のフッ素含有不活性有機液体で予め表面処理されたものであることを特徴とする導電膜形成用組成物。

IPC (2件)：

H01B 13/00 503 ,  G02F 1/1343

FI (2件)：

H01B 13/00 503 B ,  G02F 1/1343