特許
J-GLOBAL ID：200903026550429408
光学活性アモルファスフォトクロミック材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-285662
公開番号（公開出願番号）：特開2002-097462
出願日： 2000年09月20日
公開日（公表日）： 2002年04月02日
要約：
【要約】【課題】 光閉環反応にジアステレロ選択性を有する光学活性アモルファスフォトクロミック材料を提供する。【解決手段】 ジヘテロアリールエテン系化合物よりなるアモルファスフォトクロミック材料において、該ジヘテロアリールエテン系化合物は、その一方又は双方のヘテロアリール環が光学活性基置換ヘテロ5員環である光学活性アモルファスフォトクロミック材料。
請求項（抜粋）：
ジヘテロアリールエテン系化合物よりなるアモルファスフォトクロミック材料において、該ジヘテロアリールエテン系化合物は、その一方又は双方のヘテロアリール環が光学活性基置換ヘテロ5員環であることを特徴とする光学活性アモルファスフォトクロミック材料。
IPC (3件)：
C09K 9/02
, C07D333/40
, C07D333/60
C09K 9/02 B
, C07D333/40
, C07D333/60
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)
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