特許

J-GLOBAL ID：200903026556774182

ケイ素系ハイブリツド材料

発明者： 安藤 紀芳 ,  岩原 孝尚 ,  米沢 和弥
出願人/特許権者： 鐘淵化学工業株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-317285
公開番号（公開出願番号）：特開平5-125191
出願日： 1991年11月06日
公開日（公表日）： 1993年05月21日
要約：

【要約】【目的】 本発明の目的は、耐熱性、耐燃焼性に優れ、軽量高靱性で高い機械的強度と良好な成形加工性を有するケイ素系ハイブリッド材料及びその製造方法を提供することにある。【構成】 本発明は、アルコキシシラン類((A)成分)を有機系高分子((B)成分)に含浸させて加水分解・縮合反応を行わせて得られることを特徴とするケイ素系ハイブリッド材料である。

請求項（抜粋）：

アルコキシシラン類((A)成分)を有機系高分子((B)成分)に含浸させて加水分解・縮合反応を行わせて得られることを特徴とするケイ素系ハイブリッド材料。

IPC (4件)：

C08G 77/18 NUB ,  C08J 5/00 CFH ,  C08L 83/04 LRY ,  C08L 83:04