特許
J-GLOBAL ID：200903026571307426

磁気ディスク用潤滑剤及びその精製方法

発明者：
渡部 慶二

渡部 慶二 について

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矢野 映

矢野 映 について

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朽網 道徳

朽網 道徳 について

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笠松 祥治

笠松 祥治 について

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山本 尚之

山本 尚之 について

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山川 栄進

山川 栄進 について

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鈴木 和敏

鈴木 和敏 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-005979
公開番号（公開出願番号）：特開平11-199882
出願日： 1998年01月14日
公開日（公表日）： 1999年07月27日
要約：
【要約】【課題】 スティクションに伴う摩擦特性の劣化を抑制した磁気ディスク用の高性能潤滑剤とその精製方法を提供する。【解決手段】 本発明の磁気ディスク用潤滑剤は、分子構造中にエーテル基、エステル基、水酸基、スルホン酸基及びカルボキシル基のうちの少なくとも1種を含むフッ素含有高分子を含み、且つ該高分子が、溶解性パラメータ値が8.7(cal・cm-3)1/2 以下の溶剤に不溶である成分で構成される。
請求項（抜粋）：
分子構造中にエーテル基、エステル基、水酸基、スルホン酸基及びカルボキシル基のうちの少なくとも1種を含むフッ素含有高分子を含み、且つ該高分子が、溶解性パラメータ値が8.7(cal・cm-3)1/2 以下の溶剤に不溶である成分で構成されていることを特徴とする磁気ディスク用潤滑剤。
IPC (9件)：
C10M107/38 ,  C10M107/46 ,  G11B 5/72 ,  G11B 5/84 ,  C10N 20:00 ,  C10N 30:06 ,  C10N 40:18 ,  C10N 50:02 ,  C10N 70:00
FI (4件)：
C10M107/38 ,  C10M107/46 ,  G11B 5/72 ,  G11B 5/84 B
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (4件)
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