特許

J-GLOBAL ID：200903026577370421

シャンプー組成物

発明者： 赤羽 貴史 ,  小笹 裕 ,  中島 和男
出願人/特許権者： 川研ファインケミカル株式会社
代理人 (1件)： 本多 小平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-264739
公開番号（公開出願番号）：特開平7-118128
出願日： 1993年10月22日
公開日（公表日）： 1995年05月09日
要約：

【要約】【目的】 優れたリンス効果を有し、泡立ちに優れ、かつ安定性の優れた新規なシャンプー組成物を提供する。【構成】 (A)アルキル第4級アンモニウム塩型カチオン界面活性剤、(B)逆浸透膜処理をしたアミドアミン型両性界面活性剤および(C)アシル中性アミノ酸塩からなることを特徴とするシャンプー組成物であって、シャンプー組成物当たりの(A)、(B)、(C)の配合率が純分で、(A):0.1〜10wt%、(B):0.1〜25wt%、(C):0.2〜30wt%でありかつ(C)成分の重量配合比が(A)成分の2倍以上であるシャンプー組成物。

請求項（抜粋）：

下記の(A)、(B)および(C)の界面活性剤を必須成分として配合することを特徴とするシャンプー組成物であって、シャンプー組成物当たりの(A)、(B)、(C)の配合率が純分で、(A):0.1〜10wt%、(B):0.1〜25wt%、(C):0.2〜30wt%でありかつ(C)成分の重量配合比が(A)成分の2倍以上であるシャンプー組成物。(A)一般式(1)【化1】(式中、R1は炭素数12ないし22のアルキル基を表し、R2、R3およびR4はメチル基またはエチル基を表し、互いに同一でも相異なってもよい)で示されるアルキル第4級アンモニウム塩型カチオン界面活性剤(B)一般式(2)【化2】(式中、R5COは炭素数10〜20の飽和または不飽和の脂肪酸残基を表し、R6およびR7はヒドロキシエチル基または水素原子を表す)で示されるアミドアミン化合物にアクリル酸を反応させて得られる下記一般式(3)【化3】(式中、M1は水素原子、アルカリ金属、アンモニア、アルカノールアミン、塩基性アミノ酸、低級脂肪族アミンの陽イオン残基及び水素原子から選ばれる1種を表し、R5 、R6 およびR7 は前記定義に同じ)で示されるアミドアミン型両性界面活性剤の逆浸透膜処理物(C)一般式(5)【化4】(式中、R8COは炭素数10ないし20の飽和または不飽和の脂肪酸残基を表し、M2は水素原子、アルカリ金属、アンモニア、アルカノールアミン、塩基性アミノ酸から選ばれる1種の陽イオン残基を表し、nは1又は2を表す。)で示されるアシル中性アミノ酸塩

IPC (2件)：

A61K 7/075 ,  A61K 7/08

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-273810
  
• 特開平2-218797
  
• 特開昭63-030599