特許
J-GLOBAL ID:200903026580059940

真空用水素吸蔵材及び密閉空間の真空化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 三宅 景介 (外1名) ,  三宅 景介
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-141043
公開番号(公開出願番号):特開2000-328161
出願日: 1999年05月21日
公開日(公表日): 2000年11月28日
要約:
【要約】【課題】 容易に水素を吸収し、しかも、一度吸収した水素は高温に曝されても放出することなく安定して固定でき、したがって、密閉空間内の真空を維持することができて信頼性を向上させることができる。【解決手段】 真空用水素吸蔵材は、希土類金属の単体及び/又は合金から選ばれる金属Aと、周期表の6A族からパラジウムを除く8族遷移金属の単体及び/又は合金から選ばれる金属Bとからなる二元系以上の合金であり、Bの組成比がAの3.5倍以下である。この真空用水素吸蔵材を用いて密閉空間の真空化を行うには、真空用水素吸蔵材を密閉空間に収め、空間内を水素ガスにより置換し、この水素ガスを真空用水素吸蔵材に吸収させ、空間内の真空化を図る。本発明の真空用水素吸蔵材は、高温に曝されても一度吸収した水素ガスを放出せずに保持し続けるので、空間内の真空を維持することができる。
請求項(抜粋):
希土類金属の単体及び/又は合金から選ばれる金属Aと、周期表の6A族からパラジウムを除く8族遷移金属の単体及び/又は合金から選ばれる金属Bとからなる二元系以上の合金であり、Bの組成比がAの3.5倍以下である真空用水素吸蔵材。
IPC (3件):
C22C 19/00 ,  B01J 3/00 ,  B01J 20/02
FI (3件):
C22C 19/00 F ,  B01J 3/00 J ,  B01J 20/02 B
Fターム (5件):
4G066AA02B ,  4G066AA32D ,  4G066BA09 ,  4G066CA38 ,  4G066FA37
引用特許:
審査官引用 (5件)
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