特許
J-GLOBAL ID：200903026580158433
パターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
梶 良之
, 須原 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-117549
公開番号（公開出願番号）：特開2006-332615
出願日： 2006年04月21日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：
【課題】微細な幅のパターンをより簡単に形成できるパターン形成方法を提供すること。【解決手段】基材2の一方の面に、複数の溝20とこれら複数の溝20に連通し且つ溝20の幅よりも長い幅及び長さを有する拡大凹部21,22とを形成してから、一方の拡大凹部21に液滴31を着弾させて、この拡大凹部21に連通する溝20に液体32を充填し、さらに、溝20に充填された液体32を固化させる。つまり、面積の大きい拡大凹部21に液滴31を着弾させるだけで、幅が狭い溝20に液体32を充填できるため、基材2に微細なパターンを容易に形成することができる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基板上にパターンを形成する方法であって、
前記基板を形成する基材を設ける工程と、
前記基材の一方の面側に、第1の溝と、第1の溝に連通する第1の受液部とを形成する工程と、
第1の受液部に液滴を着弾させて、第1の受液部に連通する第1の溝に液体を充填する液体充填工程と、
前記第1の溝に充填された前記液体を固化させる固化工程と、
を含むことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H05K3/10 D
, H05K1/02 C
, H05K3/10 E
5E338AA02
, 5E338BB02
, 5E338BB63
, 5E338CC01
, 5E338CD11
, 5E338EE32
, 5E338EE60
, 5E343AA02
, 5E343AA12
, 5E343BB08
, 5E343BB23
, 5E343BB25
, 5E343BB71
, 5E343DD12
, 5E343FF05
, 5E343GG08
, 5E343GG11
出願人引用 (1件)
審査官引用 (10件)
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