特許

J-GLOBAL ID：200903026587960219

溶媒吸収機構ならびにオフセット印刷装置および方法

発明者： 緑川 理子 ,  米元 一成 ,  石川 信行 ,  中原 伸之
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-349309
公開番号（公開出願番号）：特開2000-158633
出願日： 1998年11月25日
公開日（公表日）： 2000年06月13日
要約：

【要約】【課題】 溶媒の吸収によるブランケット表面状態の悪化を防止する。【解決手段】 オフセット印刷に使用される転写材8の溶媒を吸収することができる溶媒吸収体3と、オフセット印刷に際して転写材を凹版9から受理して被印刷体10に転移させるブランケット2を、転写材の転移後、次の転写材の受理までの間に溶媒吸収体に回転接触させて、ブランケットの表面に吸収されている転写材の溶媒を溶媒吸収体に吸収させる接触手段とを備えた溶媒吸収機構を用いる。

請求項（抜粋）：

オフセット印刷に使用される転写材の溶媒を吸収することができる溶媒吸収体と、前記オフセット印刷に際して転写材を凹版から受理して被印刷体に転移させるブランケットを、前記転写材の転移後、次の転写材の受理までの間に前記溶媒吸収体に回転接触させて、前記ブランケットの表面に吸収されている前記転写材の溶媒を前記溶媒吸収体に吸収させる接触手段とを具備することを特徴とする溶媒吸収機構。

IPC (3件)：

B41F 35/06 ,  B41F 3/36 ,  B41F 17/14

FI (3件)：

B41F 35/06 ,  B41F 3/36 ,  B41F 17/14 E

Fターム (3件)：

2C250FA09 ,  2C250FB03 ,  2C250FB09