特許
J-GLOBAL ID:200903026592062369

ハイブリッドIC用基板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 須田 正義
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-154849
公開番号(公開出願番号):特開平8-023145
出願日: 1994年07月06日
公開日(公表日): 1996年01月23日
要約:
【要約】【目的】 放熱性のみならず、絶縁性及び耐熱性にも優れる。【構成】 ハイブリッドIC用基板10は、第1放熱用セラミック基板11とアルミニウム板21と第2放熱用セラミック基板22とがそれぞれAl-Si系ろう材を介してこの順に積層接着され、第1放熱用セラミック基板11の表面に薄膜回路又は厚膜回路12が形成される。放熱性セラミック基板11,22にはAl2O3、AlN又はSiC等からなるセラミック基板が用いられる。
請求項(抜粋):
第1放熱用セラミック基板(11,41)とアルミニウム板(21)と第2放熱用セラミック基板(22,51)とがそれぞれAl-Si系ろう材を介してこの順に積層接着され、前記第1放熱用セラミック基板(11,41)の表面に薄膜回路(44)又は厚膜回路(12)が形成されたハイブリッドIC用基板。
IPC (6件):
H05K 1/03 ,  H01L 23/12 ,  H01L 23/14 ,  H01L 23/36 ,  H05K 1/02 ,  H05K 1/05
FI (5件):
H01L 23/12 H ,  H01L 23/12 D ,  H01L 23/12 J ,  H01L 23/14 M ,  H01L 23/36 Z

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