特許

J-GLOBAL ID：200903026594000638

光学活性ベンジルアミン類の製造法

発明者： ヘイキ ハスィラ ,  池平 秀行
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-287687
公開番号（公開出願番号）：特開2000-119228
出願日： 1998年10月09日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：

【要約】【課題】 光学活性ベンジルアミン類の製造法を提供すること。【解決手段】 第VIII族遷移金属の錯体と光学活性ホスフィン化合物とを反応させ触媒調製を行なったのち、一般式(1)(式中、R1、R2は水素、ハロゲン、アルキル、アラルキル、アリール、アルケニル基、アルコキシル等)で示されるイミン類とを仕込み直ちに水素と反応させる一般式(2)で示される光学活性ベンジルアミン類の製造法。

請求項（抜粋）：

第VIII族遷移金属の錯体と光学活性ホスフィン化合物とを反応させ触媒調製を行なったのち、一般式(1)(式中、R1およびR2は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、アリールオキシ基またはアルキルオキシカルボニル基をそれぞれ示し、あるいはR1とR2が結合して環状化合物を形成していてもよい。R3は置換基を有していてもよいフェニル基を示す。)で示されるイミン類とを仕込み直ちに水素と反応させることを特徴とする一般式(2)(式中、R1、R2およびR3は、前記と同じ意味を表わす。)で示される光学活性ベンジルアミン類の製造法。

IPC (9件)：

C07C211/29 ,  B01J 31/24 ,  C07C209/52 ,  C07C211/27 ,  C07C217/08 ,  C07C217/14 ,  C07C227/04 ,  C07C229/36 ,  C07B 61/00 300

FI (9件)：

C07C211/29 ,  B01J 31/24 Z ,  C07C209/52 ,  C07C211/27 ,  C07C217/08 ,  C07C217/14 ,  C07C227/04 ,  C07C229/36 ,  C07B 61/00 300

Fターム (45件)：

4G069AA08 ,  4G069AA15 ,  4G069BA27A ,  4G069BA27B ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC74A ,  4G069BC75A ,  4G069BD11A ,  4G069BD11B ,  4G069BE05A ,  4G069BE05B ,  4G069BE08A ,  4G069BE08B ,  4G069BE26A ,  4G069BE26B ,  4G069CB57 ,  4H006AA02 ,  4H006AC52 ,  4H006AC81 ,  4H006BA22 ,  4H006BA23 ,  4H006BA24 ,  4H006BA25 ,  4H006BA26 ,  4H006BA32 ,  4H006BA37 ,  4H006BA39 ,  4H006BA45 ,  4H006BA48 ,  4H006BA81 ,  4H006BD20 ,  4H006BD70 ,  4H006BE20 ,  4H006BJ20 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM10 ,  4H006BP10 ,  4H006BP30 ,  4H006BT12 ,  4H006BU30 ,  4H006BU38 ,  4H039CA71 ,  4H039CB30 ,  4H039CF40