特許

J-GLOBAL ID：200903026594296600

誘導結合型プラズマ発生装置

発明者： 篠原 己拔 ,  上山 寛幸
出願人/特許権者： 日本高周波株式会社
代理人 (1件)： 高橋 隆二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-323549
公開番号（公開出願番号）：特開平10-149898
出願日： 1996年11月19日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：

【要約】【課題】 磁場発生用の電磁石を要せず、簡単な構成によって、高密度で電子温度が低いプラズマを安定して発生させる誘導結合型プラズマ発生装置を提供する。【解決手段】 プラズマ発生用絶縁容器の外周にヘリカルコイル及び二次巻線を各巻線間を相互に隣接して配置し、ヘリカルコイルは高周波電源に接続し、二次巻線の一端は接地し、他端を開放したことを特徴とする誘導結合型プラズマ発生装置。

請求項（抜粋）：

プラズマ発生用絶縁容器の外側にヘリカルコイル及び二次巻線を各巻線間を相互に隣接して配置し、ヘリカルコイルは高周波電源に接続し、二次巻線の一端は接地し、他端は開放したことを特徴とする誘導結合型プラズマ発生装置。

IPC (4件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/30

FI (4件)：

H05H 1/46 L ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/30