特許

J-GLOBAL ID：200903026595960139

マイクロマシニング型の構成素子および方法

発明者： ゲアハルト ラメル ,  ジーモン アルムブルスター ,  フランク シェーファー ,  フーベルト ベンツェル
出願人/特許権者： ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
代理人 (3件)： 矢野 敏雄 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-538669
公開番号（公開出願番号）：特表2006-500233
出願日： 2003年03月06日
公開日（公表日）： 2006年01月05日
要約：

マイクロマシニング型の構成素子およびマイクロマシニング型の構成素子を製造するための方法が提案され、この場合、中空室(10)と多孔質シリコン(11)の範囲とが設けられており、多孔質シリコン(11)の範囲が、中空室(10)内の圧力を低下させるために設けられている。

請求項（抜粋）：

中空室(10)と、該中空室(10)に隣接した、多孔質シリコン(11)の範囲とを備えた、マイクロマシニング型の構成素子において、多孔質シリコン(11)の範囲が、中空室(10)内の圧力を低下させるために設けられていることを特徴とする、マイクロマシニング型の構成素子。

IPC (2件)：

B81B 3/00 ,  B81C 3/00

FI (2件)：

B81B3/00 ,  B81C3/00

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 半導体レーザ素子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-243113   出願人：富士写真フイルム株式会社