ケイ素系高分子化合物及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-083287
公開番号（公開出願番号）：特開平9-241384
出願日： 1996年03月12日
公開日（公表日）： 1997年09月16日
要約：

【要約】【解決手段】下記一般式(1)で示されるアミノキシル基を有するポリシラン部位を含有するケイ素系高分子化合物。【化1】(式中、R<SP>1</SP>,R<SP>2</SP>,R<SP>3</SP>はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜12の酸素原子を含んでいてもよいアルキル基もしくはアリール基を示し、R<SP>4</SP>はアルキル基を示す。k,mは0<k≦1、0≦m<1である。)【効果】本発明によれば、ポリシラン部位を含有するケイ素系高分子化合物に温和な条件で選択性よく簡便かつ確実に種々の官能基を導入でき、得られたケイ素系高分子化合物は、他の樹脂への相溶性が改善され、またTgも低下するなど、ポリシランの持つ化学的特性を損うことなく物理的な性質が変換されたもので、光電変換材料、導電性材料、紫外線吸収材料、セラミック前駆体等として有用である。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるアミノキシル基を有するポリシラン部位を含有するケイ素系高分子化合物。【化1】(式中、R<SP>1</SP>,R<SP>2</SP>,R<SP>3</SP>はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜12の酸素原子を含んでいてもよいアルキル基もしくはアリール基を示し、R<SP>4</SP>はアルキル基を示す。k,mは0<k≦1、0≦m<1である。)

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