特許
J-GLOBAL ID：200903026618027737
粒状シリカの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-312393
公開番号（公開出願番号）：特開平11-147709
出願日： 1997年11月13日
公開日（公表日）： 1999年06月02日
要約：
【要約】【課題】 テトラアルコキシシランからゾル-ゲル法により粒状シリカを製造する方法として、界面活性剤等の添加剤を使用することなく、また機械的な粉砕を行うことなく、任意のゲル化条件でゲル化が可能で、且つ凝集のない、滑らかな表面形状を有する粒状シリカを高収率で製造する方法を提供する。【解決手段】 本発明は、テトラアルコキシシランを加水分解してゾル水溶液とし、これをゲル化し、乾燥して乾燥ゲルとし、次いで焼成する粒状シリカの製造方法において、テトラアルコキシシランを加水分解して得たゾル水溶液と、水に相溶しない有機溶媒とを混合、攪拌してW/O型懸濁液とし、次いで攪拌しながらゾル水溶液をゲル化させることを特徴とする粒状シリカの製造方法であり、本発明により、粉砕工程を経ることなしに40〜500μm程度の粒状シリカを効率よく製造することが出来る。
請求項（抜粋）：
テトラアルコキシシランを加水分解してゾル水溶液とし、これをゲル化し、乾燥して乾燥ゲルとし、次いで焼成する粒状シリカの製造方法において、テトラアルコキシシランを加水分解して得たゾル水溶液と、水に相溶しない有機溶媒とを混合、攪拌してW/O型懸濁液とし、次いで攪拌しながらゾル水溶液をゲル化させることを特徴とする粒状シリカの製造方法。
IPC (5件)：
C01B 33/152
, B01F 3/08
, C01B 13/32
, C03B 8/02
, C03B 20/00
C01B 33/152 B
, B01F 3/08
, C01B 13/32
, C03B 8/02
, C03B 20/00
