特許

J-GLOBAL ID：200903026634852357

投影露光装置およびこれを用いた露光方法ならびに半導体製造方法

発明者： 岩本 和徳
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-329606
公開番号（公開出願番号）：特開平9-148237
出願日： 1995年11月24日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】 レチクルステージやウエハステージの駆動力等によって計測系等の信頼性が損われるのを防ぐ。【解決手段】 レチクルステージ9を支持するレチクルステージ支持体4aと、ウエハステージ6を支持する支持盤2は本体フレーム3aと一体であり、ウエハW1 やレチクルR1 の位置を計測する干渉計10,11およびウエハフォーカスセンサ12等の計測系や投影光学系7等はトップフレーム3bによって支持され、本体フレーム3aはその変位や変形を吸収するかわし機構20を介してトップフレーム3bに結合されている。

請求項（抜粋）：

レチクルを移動させるレチクルステージと、ウエハを移動させるウエハステージと、該ウエハステージと前記レチクルステージの間に配設された投影光学系と、前記レチクルステージおよび前記ウエハステージを支持する第1の支持手段と、前記レチクルおよび前記ウエハのそれぞれの位置および姿勢を計測する計測手段と、該計測手段を支持する第2の支持手段を有し、該第2の支持手段が、前記第1の支持手段の変位および変形を弾力的に吸収する変位変形吸収手段を介して前記第1の支持手段に結合されていることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 503 F ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 C