特許
J-GLOBAL ID：200903026647075821
浸透性ゴム印とその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-152781
公開番号（公開出願番号）：特開2000-335069
出願日： 1999年05月31日
公開日（公表日）： 2000年12月05日
要約：
【要約】【課題】 彫刻カスや有害な強臭ガスを発生させずに、しかも高精度に浸透性ゴム印をレーザー加工する。【解決手段】 予め外形を形成した浸透性を有するメチルビニルシリコーンゴムの印面部材12を印面保持部材11に口金14を介して取り付けるとともにホルダー11を彫刻用治具16に取り付け、この彫刻用治具16をテーブル上に位置決め部材を介して位置決めしてレーザー光線による印面彫刻を行う。
請求項（抜粋）：
浸透性ゴム印の浸透性ゴム印面部材にて形成した印面部材を、浸透性ゴム印のインク供給部材の支持部を備える印面保持部材の保持部に装着するとともに前記印面部材を装着した印面保持部材をレーザー彫刻機の彫刻用治具にセットした後、前記印面部材をレーザー彫刻しつつ浸透性ゴム印に必要な印面を形成することにより構成したことを特徴とする浸透性ゴム印。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
2H084AA14
, 2H084AA32
, 2H084AE05
, 2H084BB05
, 2H084BB13
, 2H084CC20
