照明光学装置、投影露光装置、半導体素子製造方法および露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高木千嘉 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-372695
公開番号（公開出願番号）：特開2001-210586
出願日： 1990年12月27日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
要約：

【要約】【課題】σ値を変化させた際にも光量損失を招くことなく照射光を効率良く被照射面へ導き高い照度で均一に照射できるようにすることである。【解決手段】光源1からの光束によって複数の2次光源を形成するための第1オプティカルインテグレータ20と、複数の2次光源からの光束を集光する第1集光光学系4と、集光された複数の光束からより複数の3次光源を形成するための第2オプティカルインテグレータ5と、複数の3次光源からの光束を集光して被照射面を重畳的に照明する第2集光光学系7とを有する照明光学装置において、第1オプティカルインテグレータは、被照射領域の大きさを一定に保ちながら複数の3次光源の大きさを可変にするための焦点距離可変手段20を有する。

請求項（抜粋）：

光束を供給するための光束供給手段と、該光束供給手段からの光束によって複数の2次光源を形成するための第1オプティカルインテグレータと、該複数の2次光源からの光束を集光する第1集光光学系と、該第1集光光学系によって集光された複数の光束から複数の3次光源を形成するための第2オプティカルインテグレータと、該第2オプティカルインテグレータにより形成された複数の3次光源からの光束を集光して被照射面を重畳的に照明する第2集光光学系とを有する照明光学装置において、前記第1オプティカルインテグレータは、被照射領域の大きさを一定に保ちながら前記複数の3次光源の大きさを可変にするための焦点距離可変手段を有することを特徴とする照明光学装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G02B 15/16 , G02B 19/00 , G03F 7/20 521

FI (4件)：

G02B 15/16 , G02B 19/00 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 D

引用特許：

審査官引用 (15件)

特開平1-096929
特開平2-285628
特開昭63-012135

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