マーキングパターン形成装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-049146
公開番号（公開出願番号）：特開平10-244391
出願日： 1997年03月04日
公開日（公表日）： 1998年09月14日
要約：

【要約】【課題】被加工物に線幅の太いマーキングパターンを短時間で形成することのできるマーキングパターン形成装置を提供【解決手段】レーザ発振器1からレーザ光走査装置3に至るレーザ光2の光路上にアパーチャ8を設けるとともに、このアパーチャ8の絞り量を被加工物5に形成されるマーキングパターンの線幅に応じて制御する制御器10を設けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

レーザ発振器より発振されたレーザ光を被加工物に照射すると共に該レーザ光を二次元方向に走査するレーザ光走査手段を備えたマーキングパターン形成装置において、前記レーザ発振器から前記レーザ光走査手段に至る前記レーザ光の光路上にアパーチャを設けるとともに、このアパーチャの絞り量を前記マーキングパターンの線幅に応じて制御する制御手段を設けたことを特徴とするマーキングパターン形成装置。

IPC (3件)：

B23K 26/06 , B23K 26/00 , B41M 5/26

FI (4件)：

B23K 26/06 E , B23K 26/00 B , B23K 26/00 N , B41M 5/18 Q

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