特許

J-GLOBAL ID：200903026655171570

半導体基板の洗浄方法

発明者： 沖 一郎
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 岸本 瑛之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-149495
公開番号（公開出願番号）：特開平5-343379
出願日： 1992年06月09日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：

【要約】【目的】 洗浄工程中において、洗浄液中の不純物が基板表面に形成された自然酸化膜中に取り込まれるのを防止し、これにより自然酸化膜中の不純物に起因する基板の汚染を防止する。半導体基板表面の有機物を除去する。【構成】 半導体基板Wを、硫酸、過酸化水素水および塩酸の混合物からなりかつ加熱昇温された洗浄液を使用して洗浄する。

請求項（抜粋）：

半導体基板を、硫酸、過酸化水素水および塩酸の混合物からなりかつ加熱昇温された洗浄液を使用して洗浄することを特徴とする半導体基板の洗浄方法。