特許
J-GLOBAL ID：200903026674759856
ポリスチレン系延伸フィルム及びポリスチレン系延伸フィルムの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-299254
公開番号（公開出願番号）：特開平8-157615
出願日： 1994年12月02日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：
【要約】【目的】 優れた印刷性及び蒸着後の剥離強度等を有する延伸フィルムを提供すること、及び、優れた性能を有するポリスチレン系延伸フィルムを効率的に製造する方法を提供することができる。【構成】 高度のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体70〜100重量%を含むスチレン系樹脂組成物からなる延伸フィルムであって、結晶化度が35%以上であり、残留モノマー成分量が200ppm以下であり、9μm以上の異物数が1cm3中1000個以下であることを特徴とするポリスチレン系延伸フィルム、及び特定量のスチレン系樹脂組成物を溶融濾過しながら押出し、冷却、二次延伸の順で処理後、処理度Aが1×10-1以上5×102未満で熱処理を施すことを特徴とするポリスチレン系延伸フィルムの製造方法。
請求項（抜粋）：
高度のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体70〜100重量%を含むスチレン系樹脂組成物からなる延伸フィルムであって、結晶化度が35%以上であり、残留モノマー成分量が200ppm以下であり、9μm以上の異物数が1cm3中1000個以下であることを特徴とするポリスチレン系延伸フィルム。
IPC (4件)：
C08J 5/18 CET
, B29C 55/02
, C08L 25/00 LEJ
, B29K 25:00
