特許

J-GLOBAL ID：200903026681270919

基板の洗浄方法及び装置

発明者： 小笠原 和久 ,  美濃 吉満
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-182314
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026408
出願日： 1997年07月08日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：

【要約】【課題】 1つの洗浄槽内で基板の両面のブラシ洗浄とリンスと乾燥が可能な基板の洗浄装方法と装置を提供する。【解決手段】 基板Wを保持して回転するローラ-保持部4と、基板Wの両面に接触して自転可能でかつ洗浄位置と退避位置を往復移動するブラシ6a、6bと、薬液を噴出する薬液ノズル5と、ブラシ洗浄位置の上部位置で純水を噴出する純水ノズル8と、基板Wの回転及び上下移動を行う駆動部2とを備え、基板Wを保持して回転させるとともに、基板Wの両面を自転するブラシ6a、6bにて洗浄し、その後洗浄位置の上部位置で基板Wを回転させてリンス及びスピン乾燥するものであり、コンパクトな洗浄槽1内で洗浄及び乾燥を行いながら洗浄にて除去されたパーティクルが再度基板Wを汚染する恐れなくした。

請求項（抜粋）：

基板を保持して回転させるとともに基板の両面を自転するブラシにて洗浄し、その後洗浄位置の上部で基板を回転させてリンス及びスピン乾燥することを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 351 ,  B08B 1/04

FI (3件)：

H01L 21/304 341 B ,  H01L 21/304 351 S ,  B08B 1/04