特許
J-GLOBAL ID：200903026693336060
磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-121153
公開番号（公開出願番号）：特開平10-310869
出願日： 1997年05月12日
公開日（公表日）： 1998年11月24日
要約：
【要約】【課題】 非磁性支持体上に形成された磁性薄膜上に、プラズマCVD法によって保護膜を成膜するに際して、円筒キャン端部で生じる異常放電や、反応管の端縁部にプラズマが集中することによって生じる非磁性支持体のシワを防止し、品質の高い磁気記録媒体が製造されるようにする。【解決手段】 原料ガスをプラズマによって化学反応させる反応管9として、円筒キャンと対向する側の内側の端縁部9bが面取り加工されたものを用いる。
請求項（抜粋）：
長尺状の非磁性支持体上に磁性薄膜を形成した後、この非磁性支持体を、少なくとも表面が金属よりなる冷却キャンに沿って連続走行させながら、磁性薄膜上にプラズマCVD法によって保護膜を成膜するに際して、原料ガスをプラズマによって化学反応させる反応管として、円筒キャンと対向する側の内側の端縁部が、面取り加工されているものを用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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