特許

J-GLOBAL ID：200903026698128270

Pd系水素分離膜を製造する方法

発明者： 藤本 芳正 ,  田中 幸男 ,  小林 一登 ,  菊地 英一 ,  小島 紀徳 ,  上宮 成之
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社 ,  社団法人日本化学工業協会
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-354733
公開番号（公開出願番号）：特開2002-153740
出願日： 2000年11月21日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、高水素選択性及び高水素透過性を有するPd系水素分離膜の製造方法に関する。【解決手段】 本発明の水素分離膜の製造方法は、無電解メッキ法によりPd系水素分離膜を製造する方法であって、耐熱性多孔質支持体を、有機系脱脂剤で洗浄処理をした後、前記有機系脱脂剤をアルコールで置換して真空中で乾燥処理を行う工程、真空乾燥した前記支持体を、SnCl2溶液とPdCl2溶液との2液に交互に浸漬して活性化処理した後、純水によって支持体を十分に洗浄する工程、活性化浸漬処理を行った前記支持体を、ヒドラジン水溶液中で浸漬活性化処理を施す工程、及び前記浸漬処理を行った前記支持体を、無電解メッキ液に浸漬する工程、を含んでなる。

請求項（抜粋）：

無電解メッキ法によりPd系水素分離膜を製造する方法であって、耐熱性多孔質支持体を、有機系脱脂剤で洗浄処理をした後、前記有機系脱脂剤をアルコールで置換して真空中で乾燥処理を行う工程、真空乾燥した前記支持体を、SnCl2溶液とPdCl2溶液との2液に交互に浸漬して活性化処理した後、純水によって支持体を十分に洗浄する工程、活性化浸漬処理を行った前記支持体を、ヒドラジン水溶液中で浸漬活性化処理を施す工程、及び前記浸漬処理を行った前記支持体を、無電解メッキ液に浸漬する工程、を含んでなることを特徴とするPd系水素分離膜を製造する方法。

IPC (4件)：

B01D 71/02 500 ,  C23C 18/28 ,  C23C 18/31 ,  C23C 18/44

FI (4件)：

B01D 71/02 500 ,  C23C 18/28 A ,  C23C 18/31 A ,  C23C 18/44

Fターム (21件)：

4D006GA41 ,  4D006MA09 ,  4D006MB04 ,  4D006MC02X ,  4D006NA46 ,  4D006NA49 ,  4D006NA61 ,  4D006NA64 ,  4D006PB66 ,  4K022AA04 ,  4K022AA37 ,  4K022AA41 ,  4K022BA18 ,  4K022BA31 ,  4K022CA03 ,  4K022CA04 ,  4K022CA07 ,  4K022CA13 ,  4K022DA01 ,  4K022DB04 ,  4K022DB05

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開平3-288534
  
• 特開昭62-273029