特許
J-GLOBAL ID:200903026710266489

疎水性基及びホスホリルコリン基含有重合体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 酒井 一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-191384
公開番号(公開出願番号):特開平11-035605
出願日: 1997年07月16日
公開日(公表日): 1999年02月09日
要約:
【要約】【課題】ホスホリルコリン基含有単量体及び疎水性単量体を含む単量体組成物の濃度を増加させることなく、短い重合時間で高分子量の疎水性基及びホスホリルコリン基含有重合体を得ることができる製造方法を提供すること。【解決手段】ホスホリルコリン基含有単量体及び疎水性単量体を含む単量体組成物を、水30〜80重量%及び水溶性有機媒体70〜20重量%からなる水系混合媒体に混合し、ラジカル重合させ、均一溶液として重合体を得ることを特徴とする疎水性基及びホスホリルコリン基含有重合体の製造方法。
請求項(抜粋):
ホスホリルコリン基含有単量体及び疎水性単量体を含む単量体組成物を、水30〜80重量%及び水溶性有機媒体70〜20重量%からなる水系混合媒体に混合し、ラジカル重合させ、均一溶液として重合体を得ることを特徴とする疎水性基及びホスホリルコリン基含有重合体の製造方法。
IPC (3件):
C08F 2/04 ,  C08F220/18 ,  C08F230/02
FI (3件):
C08F 2/04 ,  C08F220/18 ,  C08F230/02

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