特許
J-GLOBAL ID：200903026731518518
テラヘルツ光を用いた測定装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
四宮 通
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-074557
公開番号（公開出願番号）：特開2004-279352
出願日： 2003年03月18日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】透過測定及び反射測定の両方を行う。しかも、コスト及び占有空間を低減する。【解決手段】照射光学系31〜35は、互いに異なる位置に配置される反射測定用対象物1及び透過測定用対象物2のいずれか一方に選択的に、テラヘルツ光発生器3から発生したテラヘルツパルス光を導く。受光光学系41〜45は、照射光学系の選択状態に応じて、対象物2を反射したテラヘルツパルス光及び対象物3を透過したテラヘルツパルス光のいずれか一方を選択的に、テラヘルツ光検出器4に導く。切替ステージ5によって、放物面鏡32,42を矢印Cの方向に移動させることで、反射測定と透過測定とを切り替える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
テラヘルツパルス光を発生するテラヘルツ光発生器と、
テラヘルツパルス光を検出するテラヘルツ光検出器と、
互いに異なる位置に配置される反射測定用対象物及び透過測定用対象物のいずれか一方に選択的に、前記テラヘルツ光発生器から発生したテラヘルツパルス光を導く照射光学系と、
前記照射光学系の選択状態に応じて、前記反射測定用対象物を反射したテラヘルツパルス光及び前記透過測定用対象物を透過したテラヘルツパルス光のいずれか一方を選択的に、前記テラヘルツ光検出器に導く受光光学系と、
切替機構と、
を備え、
前記照射光学系は可動の第1の反射光学素子を含み、
前記受光光学系は可動の第2の反射光学素子を含み、
前記切替機構は、(a)前記第1の反射光学素子が、前記照射光学系の光軸上にあって前記テラヘルツ光発生器からのテラヘルツパルス光を前記反射測定用対象物に導く第1の位置に位置するとともに、前記第2の反射光学素子が、前記受光光学系の光軸上にあって前記反射測定用対象物を反射したテラヘルツパルス光を前記テラヘルツ光検出器に導く第2の位置に位置する第1の切替状態と、(b)前記第1の反射光学素子が、前記第1の位置に位置するときと同じ姿勢で、前記照射光学系の光軸上にあって前記テラヘルツ光発生器からのテラヘルツパルス光を前記透過測定用対象物に導く第3の位置に位置するとともに、前記第2の反射光学素子が、前記第2の位置に位置するときと同じ姿勢で、前記受光光学系の光軸上にあって前記透過測定用対象物を透過したテラヘルツパルス光を前記テラヘルツ光検出器に導く第4の位置に位置する第2の切替状態とに、択一的に切り替える、
ことを特徴とするテラヘルツ光を用いた測定装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (16件)：
2G059AA02
, 2G059BB16
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059FF08
, 2G059FF09
, 2G059GG01
, 2G059GG04
, 2G059HH01
, 2G059JJ14
, 2G059JJ18
, 2G059JJ19
, 2G059JJ22
, 2G059KK04
, 2G059MM01
