特許

J-GLOBAL ID：200903026731992414

塗布液塗布方法

発明者： 美作 昌宏 ,  真田 雅和
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-309823
公開番号（公開出願番号）：特開平10-151406
出願日： 1996年11月21日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】【課題】 塗布液の利用効率を向上させつつも、基板上に均一な膜厚の塗布被膜を形成することができる。【解決手段】 基板の表面に塗布液を供給して所望膜厚の被膜を形成する塗布液塗布方法であって、基板を静止させた状態のtS 時点で塗布液の供給を開始し、t1 時点にて回転数を比較的高速の回転数R3に上げて塗布液を基板のほぼ全面に拡げ、tE 時点にて回転数R4に減速して乱流などに起因する膜厚不均一要因を抑制するのとほぼ同時に塗布液の供給を停止し、その後に回転数R5で回転させて塗布被膜の膜厚を調整する。

請求項（抜粋）：

基板の表面に塗布液を供給して所望膜厚の塗布被膜を形成する塗布液塗布方法であって、(a)基板を静止させた状態で、その中心付近に塗布液の供給を開始する過程と、(b)前記基板の回転数を比較的高速の第1の回転数に上げてゆく過程と、(c)前記基板の回転数を所定の加速度で第2の回転数に減速する過程と、(d)前記基板の回転数を第2の回転数に減速するのとほぼ同時に、前記基板への塗布液の供給を停止する過程と、(e)前記基板を、前記第1の回転数より低くかつ前記第2の回転数より高い第3の回転数で回転させて、その表面全体を覆っている塗布被膜の膜厚を調整する過程と、をその順に実施することを特徴とする塗布液塗布方法。

IPC (4件)：

B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/31

FI (4件)：

B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/31 A ,  H01L 21/30 564 C

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-313160
  
• 特開昭62-190838
  
• 特開昭63-313160
  
• 特開昭62-190838