特許

J-GLOBAL ID：200903026733031357

異方性多層薄膜構造体の評価法及び評価装置

発明者： 廣沢 一郎
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-086736
公開番号（公開出願番号）：特開2001-272308
出願日： 2000年03月27日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：

【要約】【目的】薄膜試料の光学的異方性を評価する装置と方法を与える。【構成】試料表面に偏光子を通過することでS偏光とP偏光とのいずれか一方の偏光にされた平行光線を入射し、反射光のうち他方の偏光成分の強度を検光子と光強度検出器により測定することで、薄膜試料の異方性を測定する異方性多層薄膜構造体評価法及び評価装置であり、面内の測定を広範囲で同時に行うため、複数組の光源と検出器を並列に配置し、平行移動機能を備えたステージを有する装置である。

請求項（抜粋）：

P偏光またはS偏光の一方の偏光成分を異方性多層薄膜構造体に対し一定の角度で入射して発生する反射光の入射光とは異なる偏光成分の強度を測定し、異方性多層薄膜構造体の光学的異方性を決定することを特徴とする異方性多層薄膜構造体の評価法。

IPC (3件)：

G01M 11/00 ,  G01N 21/23 ,  G01N 21/27

FI (3件)：

G01M 11/00 T ,  G01N 21/23 ,  G01N 21/27 A

Fターム (15件)：

2G059AA02 ,  2G059BB16 ,  2G059BB20 ,  2G059DD12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE05 ,  2G059FF01 ,  2G059GG01 ,  2G059GG04 ,  2G059JJ01 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ19 ,  2G059KK04 ,  2G059PP04 ,  2G086EE10

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 異方性薄膜検査法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-049320   出願人：日本電気株式会社