特許

J-GLOBAL ID：200903026733045323

原料の加熱炉装置

発明者： 地崎 達 ,  國井 大藏
出願人/特許権者： 株式会社チサキ
代理人 (1件)： 藤岡 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-340335
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159043
出願日： 1993年12月09日
公開日（公表日）： 1995年06月20日
要約：

【要約】【目的】 排気される燃焼ガス中の可燃ガス及び熱を有効利用できる原料の加熱炉装置を提供することを目的とする。【構成】 炉床2上に形成される環状空間11内の堆積層に上部自由表面18と下部自由表面19とを形成する離隔部14が設けられ、上記上部自由表面18上の空間と下部自由表面19上の空間とにそれぞれ連通する上部排気管13と下部排気管15とを設け、上部排気管13を通して有害ガスや可燃ガスを含む低温化した焼成後の燃焼ガスが取り出され、下部排気管15からは有害ガスや可燃ガスを含まない高温の燃焼ガスが取り出される。

請求項（抜粋）：

単数又は棚状に段をなす複数の環板状の炉床を有し、少なくとも一箇の炉床が鉛直中心軸線のまわりに回転し、最上段の炉床と、該炉床の上方位置に不動に設けられ高温ガス送入装置をもつ炉蓋の周囲部に連なる筒状の内周壁と、該内周壁と間隔をもって設けられた外周壁と、上記内周壁及び外周壁の互いの上部を連絡する上壁とによって包囲され上記炉床の内周縁側に開放される環状空間を形成し、加熱処理を受けるべき原料を上記環状空間内に堆積層を形成するように上記炉床上に供給する原料供給管を上記内周壁、外周壁そして上壁のいずれかに接続し、加熱後の原料を上記炉床の内周縁から逐次落下可能とした加熱炉装置において、上記環状空間内の堆積層に上部自由表面と下部自由表面とを形成する離隔部が設けられ、上記上部自由表面上の空間と下部自由表面上の空間とにそれぞれ連通する上部排気管と下部排気管とを設けたことを特徴とする原料の加熱炉装置。