特許

J-GLOBAL ID：200903026733349268

ポジ型レジスト組成物の製造方法

発明者： 中尾 元
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-134146
公開番号（公開出願番号）：特開2003-330202
出願日： 2002年05月09日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：

【要約】【課題】 経時での感度変動が小さく、現像液展開性に優れたポジ型レジスト組成物の製造方法を提供する。【解決手段】 単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物の製造方法に於いて、単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂をイオン交換フィルターにより濾過する濾過工程を含み、好ましくは、更に、単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を不溶コロイド除去フィルターで濾過する濾過工程を含むポジ型レジスト組成物の製造方法。

請求項（抜粋）：

単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物の製造方法に於いて、単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂をイオン交換フィルターにより濾過する濾過工程を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物の製造方法。

IPC (3件)：

G03F 7/26 501 ,  B01J 39/00 ,  G03F 7/039 601

FI (3件)：

G03F 7/26 501 ,  B01J 39/00 ,  G03F 7/039 601

Fターム (16件)：

2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096LA30